特許
J-GLOBAL ID:200903047361982934

乾燥方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梶原 辰也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-259838
公開番号(公開出願番号):特開平5-074753
出願日: 1991年09月11日
公開日(公表日): 1993年03月26日
要約:
【要約】【目的】 ウォータマークの発生を防止し、乾燥時間を短縮化することができるベーパ乾燥技術を提供する。【構成】 ウエハ2および治具3をベーパ15の雰囲気に浸漬させる以前に温水浴槽20において加熱する。【効果】 温水加熱後、ウエハ2および治具3がベーパ15の雰囲気に投入されると、ベーパ15が一瞬にして結露してベーパ15が一気に消費され、ベーパの境界面レベルLが低下する現象の発生を防止することができる。その結果、ウエハ2がベーパ雰囲気から大気中に露出する状態を防止し、ウエハが大気中で自然乾燥することによるウォータマークの発生を防止することができる。また、ベーパの雰囲気レベルの低下を防止することにより、その雰囲気レベルLの回復の待ち時間を省略することができるため、その分、乾燥時間を短縮化することができる。
請求項(抜粋):
洗浄後の被処理物が複数枚、保持治具に保持された状態で、有機溶剤のベーパ雰囲気に浸漬されることにより、被処理物および保持治具が乾燥される乾燥方法において、前記ベーパ雰囲気に浸漬される以前に、被処理物が保持治具に保持された状態で温水により加熱され、続いて、被処理物および保持治具が前記ベーパ雰囲気に浸漬されることを特徴とする乾燥方法。

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