特許
J-GLOBAL ID：200903047374345500
アライメント方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-015254
公開番号（公開出願番号）：特開平10-214765
出願日： 1997年01月29日
公開日（公表日）： 1998年08月11日
要約：
【要約】【課題】 感光基板上の位置合わせ用マークのエッジ部での荷電粒子線の検出信号の乱れの影響を軽減して、高精度に位置合わせを行う。【解決手段】 マスク上のアライメントマーク34Xのウエハ上への投影像のピッチP1と、ウエハマーク39XのピッチPとを僅かに異ならしめておき、電子線を照射してウエハマーク39X上にアライメントマーク34Xの像を投影してモアレ縞を形成し、このモアレ縞からの反射電子を検出する。この状態で両マークを相対走査したときに得られる反射電子信号より両マークの位置ずれ量を検出する。
請求項（抜粋）：
荷電粒子線のもとでマスク上のパターンを投影系を介して感光基板上に転写するに際して、前記マスクと前記感光基板との位置合わせを行うためのアライメント方法において、前記マスク上に計測方向に所定ピッチで複数本の荷電粒子線のスリット状の透過部を配置してなる第1の位置合わせ用マークを形成し、前記感光基板上の前記第1の位置合わせ用マークの投影像と計測方向に同程度の幅を有する領域に、線状の荷電粒子線の反射部を計測方向に前記第1の位置合わせ用マークの投影像とは僅かに異なるピッチで配置してなる第2の位置合わせ用マークを形成しておき、所定の荷電粒子線ビームのもとで前記第1の位置合わせ用マークの投影像と前記第2の位置合わせ用マークとを計測方向に相対移動しつつ、該第2の位置合わせ用マークから発生する反射荷電粒子線、又は2次荷電粒子線を検出し、該検出結果に基づいて前記マスクと前記感光基板との位置合わせを行うことを特徴とするアライメント方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 541 K
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 502 M
