特許

J-GLOBAL ID：200903047382932155

研磨方法及び研磨装置

発明者： 西山 榮 ,  西山 智弘
出願人/特許権者： 西山ステンレスケミカル株式会社
代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-137718
公開番号（公開出願番号）：特開2001-315052
出願日： 2000年05月10日
公開日（公表日）： 2001年11月13日
要約：

【要約】【課題】 被研磨物のサイズが大きくても、可及的に部品コストが低く、高精度に研磨することができ、また作業効率が高い研磨方法、及びその実施に使用する装置を提供する。【解決手段】 対をなす搬入ロール1,1,...のギャップ及び対をなす搬出ロール2,2,...のギャップ、並びに対をなす研磨ロール3,3のギャップを調整しておき、被研磨物Kを搬入ロール1,1,...によって、研磨ロール3,3の間に搬入する。研磨ロール3,3の入側には被研磨物Kの上面又は上下面に純水又はスラリ等を供給する供給パイプが配設してあり、研磨ロール3,3の間に搬入される被研磨物Kに前記供給パイプから純水又はスラリ等を供給しつつ、被研磨物Kの搬送方向に回転する順回転又はそれとは逆の逆回転させた研磨ロール3,3を被研磨物Kに転接させることによって被研磨物Kの表面を平坦に研磨する。

請求項（抜粋）：

板状の被研磨物の表面を研磨する方法において、前記被研磨物を一方向へ搬送しつつ、研磨ロールを被研磨物の表面に転接させることを特徴とする研磨方法。

Fターム (8件)：

3C058AA06 ,  3C058AA09 ,  3C058AA18 ,  3C058AB03 ,  3C058AC04 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA10