特許

J-GLOBAL ID：200903047384467816

耐久性の向上された投影露光装置及び結像光学系の製造方法

発明者： 神保 宏樹 ,  藤原 誠志
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-318472
公開番号（公開出願番号）：特開2000-143278
出願日： 1998年11月10日
公開日（公表日）： 2000年05月23日
要約：

【要約】【課題】 投影露光装置において、長期にわたって光照射を行うと、光学部材の透過率等の光学特性の劣化が起こる。【解決手段】 本発明にかかる投影露光装置は、塩素濃度が1ppm以下の石英ガラスからなる光学部材と、塩素濃度が1ppm〜200ppmの石英ガラスからなる光学部材とを、光学系に含んでいる。

請求項（抜粋）：

光源からの所定の波長の光をパターンが形成されたマスク上に導き、該マスク上のパターンを基板上に投影露光する投影露光装置において、塩素濃度が1ppm以下の石英ガラスからなる光学部材と、塩素濃度が1ppm以上200ppm以下の石英ガラスからなる光学部材とを含む光学系を有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (7件)：

C03C 3/06 ,  C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  G02B 13/14 ,  G02B 19/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

C03C 3/06 ,  C03B 8/04 D ,  C03B 20/00 F ,  G02B 13/14 ,  G02B 19/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (90件)：

2H052BA02 ,  2H052BA09 ,  2H052BA12 ,  2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087LA24 ,  2H087LA26 ,  2H087LA27 ,  2H087NA02 ,  2H087NA04 ,  2H087PA01 ,  2H087PA02 ,  2H087PA04 ,  2H087PA15 ,  2H087PA17 ,  2H087PB01 ,  2H087PB02 ,  2H087PB04 ,  2H087PB20 ,  2H087RA07 ,  2H087RA26 ,  2H087RA32 ,  2H087UA03 ,  2H087UA04 ,  4G014AH11 ,  4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062CC07 ,  4G062DA08 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FA10 ,  4G062FB01 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062GE02 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ06 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM02 ,  4G062MM04 ,  4G062NN01 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25