特許
J-GLOBAL ID：200903047387238214

露光装置のフォトマスク保持構造、及び保持方法

発明者：
宮本 治彦

宮本 治彦 について

, 
稗田 豊秋

稗田 豊秋 について

, 
味埜 敏

味埜 敏 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 小林 和憲 ,  飯嶋 茂 ,  小林 英了
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-054221
公開番号（公開出願番号）：特開2008-216653
出願日： 2007年03月05日
公開日（公表日）： 2008年09月18日
要約：
【課題】フォトマスクのうねりと、厚みムラによるマスク面への影響を解消して、プロキシミティギャップを均一に保つ。【解決手段】搬送ローラ4の外周と、この搬送ローラ4の外周に近接して配置されるフォトマスク6の間に第1基準部材16及び第2基準部材17を配置し、これらを高剛性な保持部材18に取り付ける。フォトマスク6のマスク面6cは、マスク面6cよりも高い平面度を有する第1基準面16b及び第2基準面17bに当接され、背後からアクチュエータ19で押圧される。第1基準部材16及び第2基準部材17は、フォトマスク6よりも剛性が高いので、マスク面6cは、第1基準面16b及び第2基準面17bに倣い、うねりが矯正され、マスク面6cに対するフォトマスク6の厚みムラの影響が小さくなる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
感光層を有する帯状またはシート状のワークを外周に巻き付けて搬送する搬送ローラと、 前記搬送ローラの外周に近接して配置され、前記ワークに対面するマスク面にマスクパターンが設けられるフォトマスクと、 前記フォトマスクの露光に用いられる露光エリアに、前記ワークの搬送方向に直交する幅方向の全域で光を照射し、前記マスクパターンを介して前記ワークにプロキシミティ露光を行なう照明手段を備える露光装置のフォトマスク保持構造において、 前記搬送ローラの外周と前記フォトマスクとの間に配置される基準部材と、 前記マスク面に対面するように前記基準部材に設けられる基準面と、 前記マスク面の露光エリアの外周部を前記基準面に当接させて倣わせる当接手段を備えることを特徴とする露光装置のフォトマスク保持構造。
IPC (2件)：
G03F 1/14 ,  G03F 7/20
FI (2件)：
G03F1/14 M ,  G03F7/20 501
Fターム (5件)：
2H095BE12 ,  2H097AB08 ,  2H097BA10 ,  2H097CA17 ,  2H097GA45
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM