特許

J-GLOBAL ID：200903047390406110

光触媒体及びその製造法

発明者： 緒方 四郎 ,  松井 義光
出願人/特許権者： 株式会社タオ ,  株式会社田中転写
代理人 (1件)： 廣田 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-038897
公開番号（公開出願番号）：特開平10-235201
出願日： 1997年02月24日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：

【要約】【課題】 有機高分子樹脂基板等有機高分子材を基体として用いた場合における光触媒による基体の変色や異臭の発生等の悪影響や、無機材を基体として用いた場合における光触媒への悪影響を完全にブロックし得る光触媒体を提供すること。【解決手段】 アモルファス型過酸化チタン又はアモルファス型酸化チタン等のアモルファス型チタン酸化物とコロイダルシリカ等のケイ素酸化物とを含むブロック層を介して、光触媒を有機高分子材等からなる基体の上に担持させる。また、かかる光触媒体のブロック層と有機高分子材等からなる基体との間に、さらに添加剤不含の有機高分子樹脂シートを介在させる。

請求項（抜粋）：

アモルファス型チタン酸化物とケイ素酸化物とを含むブロック層を介して、光触媒を基体の上に担持させてなることを特徴とする光触媒体。

IPC (5件)：

B01J 35/02 ,  B01J 21/06 ,  C01B 15/047 ,  C01G 23/04 ,  C09D 5/00

FI (6件)：

B01J 35/02 J ,  B01J 35/02 Z ,  B01J 21/06 M ,  C01B 15/047 ,  C01G 23/04 Z ,  C09D 5/00 L