特許
J-GLOBAL ID：200903047400547337
レーザーによる除染方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-246054
公開番号（公開出願番号）：特開平8-110396
出願日： 1994年10月12日
公開日（公表日）： 1996年04月30日
要約：
【要約】【目的】 除染と同じレーザー照射装置を利用して、ドライな状態で、除染と改質層の形成が行えるレーザーによる除染方法を提供する。【構成】 除染を行う材料15に第1のレーザー光LB を照射して放射性酸化物層20を除去した後、その放射性酸化物層20を除去した材料表面に第2のレーザー光LA を照射すると共に酸化剤などの改質材を供給して表面改質層21を形成するようにしたことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
除染を行う材料に第1のレーザー光を照射して放射性酸化物層を除去した後、その放射性酸化物層を除去した材料表面に第2のレーザー光を照射すると共に酸化剤などの改質材を供給して表面改質層を形成することを特徴とするレーザーによる除染方法。
IPC (3件)：
G21F 9/28 551
, G21F 9/28 ZAB
, B23K 26/00
