特許
J-GLOBAL ID：200903047404384653
スペース部吸光性基板の製法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松田 正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-263742
公開番号（公開出願番号）：特開平6-118218
出願日： 1992年10月01日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：
【要約】【目的】 低コストで、単純な工程で処理でき耐熱性の課題も無い、スペース部吸光性基板の製法を提供すること。【構成】 基板1のスペース部4に、ビス-ベンゼン-遷移金属錯体層、またはビス-シクロペンタジエニル-遷遷移金属錯体層5を形成する工程と、これを酸化することにより遷移金属の酸化物層6を形成する工程とを備えたスペース部吸光性基板の製法であって、これにより表示装置用基板において、遷移金属錯体を酸化させ、サイドエッチ部に吸光層を同時に作り込み、コントラストを上げる。
請求項（抜粋）：
基板のスペース部に、遷移金属錯体層を形成する工程と、これを酸化することにより遷移金属の酸化物層を形成する工程とを備えたことを特徴とするスペース部吸光性基板の製法。
IPC (2件)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335
