特許
J-GLOBAL ID：200903047406799818
光学焦点テストマスクと監視システム及び方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-229601
公開番号（公開出願番号）：特開平6-204305
出願日： 1993年08月24日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：
【要約】【目的】 半導体ウエーハ製造のための投影式結像システムに使用する、光学焦点テストマスクと監視システム及びその方法を提供する。【構成】 焦点テストマスクは位相変更しない透明基板を持ち、また、位相変更しない物質と位相変更する物質とを交互に繰り返したテストパターンが一定間隔を置いた相対する平行線を横切るように定義され、その相対する平行線の間に配置された180 ゚以外の位相変更物資を含む。焦点テストマスクが目的物の表面に投影されたとき、テストパターンの測定可能なずれが焦点ぼけの方向と大きさに対応する。これに替わる他のテストパターンの具体例も提供するが、これらは全て、マスク構造に対して180 ゚以外の位相変更窓をすくなくとも1つは持つ。さらに、このマスク構造を使用する監視システムと監視プロセスを提供する。
請求項（抜粋）：
投影式結像システムに使用する焦点テストマスクで、上記焦点テストマスクは目的物表面にテストパターンを投影することにより焦点ぼけを定量化することを可能にし、上記焦点テストマスクは、光が通過する基板と、上記基板に関連する位相変更パターンと、上記位相変更パターンを通る光と上記基板を通る光との間に位相差をつくるように、上記基板を通る光に対して上記位相変更パターンを通る180 ゚以外の位相変更光よりなり、上記システムにより上記位相変更パターンが目的物表面に光学的に投影されたとき、投影されたテストパターンの寸法を測定することにより光学的焦点ぼけの方向と大きさが確定できる焦点テストマスク。
IPC (2件)：
前のページに戻る
