レジスト組成物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-108765
公開番号（公開出願番号）：特開2002-303982
出願日： 2001年04月06日
公開日（公表日）： 2002年10月18日
要約：

【要約】【課題】放射線に対する透明性、ドライエッチング性、感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れるレジストパターンを与える化学増幅型レジスト組成物の提供。【解決手段】含フッ素ジオレフィン(a)(例えばCF2=CFCF2CH2CH2CH=CH2)に基づく環化重合単位とブロック化された酸性基を有するモノマー(b)(例えばCF2=CFO(CF2)3COOC(CH3)3)に基づく重合単位とを含有する含フッ素重合体(A)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(B)及び有機溶媒(C)を含有するレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

下記式(1)で示される含フッ素ジオレフィン(a1)に基づく環化重合単位と酸により開裂するブロック化剤によりブロック化された酸性基を有するモノマー(a2)に基づく重合単位とを含有する含フッ素重合体(A)の100質量部に対し、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(B)の0.1〜20質量部及び有機溶媒(C)の100〜1000質量部を含有することを特徴とするレジスト組成物。CF2=CR1QCR2=CH2 ・・・(1)ここで、R1、R2はそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表し、Qは炭素数2〜5個の2価有機基である。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 , C08F216/12 , C08F236/20 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 , C08F216/12 , C08F236/20 , H01L 21/30 502 R

Fターム (32件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AA10 , 2H025AA18 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC03 , 2H025FA17 , 4J100AB07Q , 4J100AD13Q , 4J100AE09Q , 4J100AE78P , 4J100AJ01Q , 4J100AJ03Q , 4J100AS13P , 4J100BA03 , 4J100BB07 , 4J100BB12 , 4J100BB18 , 4J100CA04 , 4J100JA38

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