ジオールの調製プロセス

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本秀策
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-612247
公開番号（公開出願番号）：特表2002-542216
出願日： 2000年03月03日
公開日（公表日）： 2002年12月10日
要約：

【要約】本発明は、ジオールの調製のためのプロセスに関する。本発明により、架橋剤と式(I)の重合性モノマーとを含む重合性組成物の調製プロセスが提供され、このプロセスは:(i)式(II)の化合物と固定化された酸とを接触させる工程であって、ここでX、Y、Z、R1、PおよびQは独立して、ヒドロカルビル基または水素から選択され、そしてAは(CH2)nであり、ここでnは0または1である、工程;(ii)工程(i)の生成物を中和して架橋剤を形成する工程、を包含する。

請求項（抜粋）：

架橋剤と式I【化1】の重合性モノマーとを含む重合性組成物の調製プロセスであって、以下の工程:(i)式II【化2】の化合物と固定化された酸とを接触させる工程であって、ここでX、Y、Z、R1、PおよびQは独立して、ヒドロカルビル基または水素から選択され、そしてここでAは(CH2)nであり、ここでnは0または1である、工程;(ii)工程(i)の生成物を中和して該架橋剤を形成する工程、を包含する、プロセス。

IPC (7件)：

C07C 67/29 , C07C 69/54 , C08F220/28 , C08J 5/00 , G02C 7/04 , C07B 61/00 300 , C08L 33:14

FI (7件)：

C07C 67/29 , C07C 69/54 Z , C08F220/28 , C08J 5/00 , G02C 7/04 , C07B 61/00 300 , C08L 33:14

Fターム (67件)：

2H006BB03 , 2H006BB06 , 2H006BC07 , 4F071AA33 , 4F071AF04 , 4F071AF30 , 4F071AF54 , 4F071AH19 , 4F071BA02 , 4F071BB01 , 4F071BB12 , 4F071BC07 , 4H006AA02 , 4H006AA03 , 4H006AB46 , 4H006AC41 , 4H006AD16 , 4H006BA66 , 4H006BA72 , 4H006BA82 , 4H006BB70 , 4H006BD20 , 4H006BD70 , 4H006BD80 , 4H006BE60 , 4H006BN10 , 4H039CA60 , 4H039CH60 , 4J100AA02R , 4J100AA15R , 4J100AB02R , 4J100AB03R , 4J100AB04R , 4J100AC03R , 4J100AC04R , 4J100AG04R , 4J100AJ01R , 4J100AJ02R , 4J100AJ09R , 4J100AK32R , 4J100AL03R , 4J100AL04R , 4J100AL05R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL09R , 4J100AL10R , 4J100AM02R , 4J100AM15R , 4J100AQ06R , 4J100AQ12R , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA08R , 4J100BA31R , 4J100BA40R , 4J100BC02R , 4J100BC04R , 4J100BC43R , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA23 , 4J100DA36 , 4J100DA62 , 4J100JA34

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