高表面積物質の製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須山佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-175470
公開番号（公開出願番号）：特開2001-354406
出願日： 2000年06月12日
公開日（公表日）： 2001年12月25日
要約：

【要約】【課題】安価な炭化物や原料損失の少ない低吸着力の活性炭のような多孔質基材を原料として用い、その重量を損なうことなく、高表面積化(高性能化)を図る。さらに、廃棄放出物の削減や製造エネルギーの低減などを実現する。【解決手段】一酸化炭素または含炭素化合物が存在する雰囲気下で、多孔質基材1を200〜7000°C(特に300〜600°C)の範囲の温度に保ち、雰囲気中に存在する一酸化炭素または含炭素化合物から、ブードアール反応または熱分解反応に基づいて炭素を生成し、この生成した炭素を多孔質基材1の孔内に沈着させて表面積を増加させる。このようにして、原料の重量を損なうことなく、高表面積物質4を製造する。

請求項（抜粋）：

一酸化炭素または含炭素化合物が存在する雰囲気下で、多孔質基材を200〜1000°Cの範囲の温度に保ち、前記多孔質基材の孔内に炭素を沈着させて表面積を増加させることを特徴とする高表面積物質の製造方法。

IPC (8件)：

C01B 31/02 101 , B01J 20/20 , B01J 23/745 , B01J 23/889 , C01B 31/08 , C01F 7/02 , C04B 38/00 303 , C23C 16/26

FI (8件)：

C01B 31/02 101 Z , B01J 20/20 Z , C01B 31/08 Z , C01F 7/02 D , C04B 38/00 303 Z , C23C 16/26 , B01J 23/74 301 M , B01J 23/84 311 M

Fターム (44件)：

4G019FA15 , 4G046CA01 , 4G046CB05 , 4G046CC02 , 4G046CC03 , 4G046CC05 , 4G046CC06 , 4G046HC14 , 4G066AA02D , 4G066AA04B , 4G066AA04C , 4G066AA20C , 4G066AA34D , 4G066AA43A , 4G066AC08C , 4G066AE19C , 4G066BA26 , 4G066BA36 , 4G066FA34 , 4G069AA02 , 4G069AA03 , 4G069BA08A , 4G069BA08B , 4G069BB02A , 4G069BB02B , 4G069BC62A , 4G069BC62B , 4G069BC66A , 4G069BC66B , 4G069BC68A , 4G069BC68B , 4G069BC75A , 4G069CB81 , 4G069CD10 , 4G069DA05 , 4G076AA02 , 4G076BF04 , 4G076CA12 , 4K030AA09 , 4K030BA27 , 4K030CA01 , 4K030FA10 , 4K030JA10 , 4K030LA01

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