特許

J-GLOBAL ID：200903047441065770

基板洗浄装置

発明者： 谷田 徹
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-342271
公開番号（公開出願番号）：特開平7-167631
出願日： 1993年12月15日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：

【要約】【目的】 基板パターンの磨耗の発生および進行を検知する機能を備えた基板洗浄装置を提供すること。【構成】 本発明は、表面に微細パターンが形成された基板を洗浄するための基板洗浄装置において、前記基板を洗浄する基板洗浄手段と、該基板洗浄手段による前記基板の洗浄後に、前記基板表面のパターンの磨耗検査をするパターン検査手段とを備えている。

請求項（抜粋）：

表面に微細パターンが形成された基板を洗浄するための基板洗浄装置において、前記基板を洗浄する基板洗浄手段と、該基板洗浄手段による前記基板の洗浄後に、前記基板表面のパターンの磨耗検査をするパターン検査手段とを備えていることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (4件)：

G01B 11/24 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/66

FI (2件)：

H01L 21/30 569 Z ,  H01L 21/30 570