特許

J-GLOBAL ID：200903047460596353

負イオンの発生方法及びその装置

発明者： 藤 井 敏 昭
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 吉嶺 桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-345104
公開番号（公開出願番号）：特開2000-167435
出願日： 1998年12月04日
公開日（公表日）： 2000年06月20日
要約：

【要約】【課題】 清浄な負イオンが、効果的に外部の空間中に発生できる負イオン発生方法及びその装置を提供する。【解決手段】 空間中に、光電子放出材14と電場用電極6と該光電子放出材に紫外線及び/又は放射線を照射する照射源5とを有する負イオンの発生装置1において、該光電子放出材4と電場用電極6とは、粒子除去による清浄化用4-1、6-1と負イオン発生用4-2、6-2の異なった電場を形成する二つの部分からなることとしたものであり、前記空間には、さらに、負イオン発生気体を清浄化させるための光触媒及び/又は吸着材を設置することができる。

請求項（抜粋）：

空間中で、光電子放出材と電場用電極の間に電場を形成し、該電場下に光電子放出材に紫外線及び/又は放射線を照射する負イオンの発生方法において、該光電子放出材と電場用電極間には、粒子除去による清浄化用と負イオン発生用の二つの異なった電場を形成することを特徴とする負イオンの発生方法。

IPC (4件)：

B03C 3/38 ,  B03C 3/02 ,  B03C 3/155 ,  H01T 23/00

FI (5件)：

B03C 3/38 ,  B03C 3/02 A ,  B03C 3/02 B ,  H01T 23/00 ,  B03C 3/14 A

Fターム (6件)：

4D054AA11 ,  4D054BA06 ,  4D054BA17 ,  4D054BC31 ,  4D054EA01 ,  4D054EA27