特許

J-GLOBAL ID：200903047469257888

[[(2-ニトロ-4,5-ジメトキシベンジル)オキシ]カルボニル]シクロヘキシルアミンおよびその利用方法

発明者： 山 岡 亜 夫 ,  葛 葉 昇
出願人/特許権者： アイバイツ株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-133244
公開番号（公開出願番号）：特開平6-345711
出願日： 1993年06月03日
公開日（公表日）： 1994年12月20日
要約：

【要約】【構成】 本発明に係る[[(2-ニトロ-4,5-ジメトキシベンジル)オキシ]カルボニル]シクロヘキシルアミンは、【化1】で表される新規化合物である。【効果】 本発明によれば、上記の新規化合物が提供される。この化合物は、露光部と非露光部の特性のバランスが良く、解像度に優れ、ネガ・ポジ両用型レジストとして使用可能なパターン形成材料の成分として有用である。

請求項（抜粋）：

下記式にて示される[[(2-ニトロ-4,5-ジメトキシベンジル)オキシ]カルボニル]シクロヘキシルアミン。【化1】

IPC (2件)：

C07C271/24 ,  C09D 4/00 PEN