特許

J-GLOBAL ID：200903047497328510

リソグラフィー用ペリクル膜の製造方法

発明者： 永田 愛彦 ,  浜田 裕一 ,  白崎 享 ,  樫田 周 ,  久保田 芳宏
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-034741
公開番号（公開出願番号）：特開平6-230561
出願日： 1993年01月29日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明はペリクルフレームの外側部分にある不要なペリクル膜を除去するときに基板を傷つけることがないペリクル膜製造装置を用いるリソグラフィー用ペリクル膜の製造方法の提供を目的とするものである。【構成】 本発明によるリソグラフィー用ペリクル膜の製造方法は、ペリクル膜を張るフレーム1の外側に、このフレーム1より大きく、かつこのフレーム1に接続ピン3で接続されている第2のフレーム2を設けたペリクル膜製造装置を用いてペリクル膜4を製造することを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

ペリクル膜を張るフレーム1の外側に、このフレーム1より大きく、かつこのフレームに接続してなる第2のフレームを設けた装置を用いてペリクル膜を製造することを特徴とするリソグラフィー用ペリクル膜の製造方法。

IPC (2件)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027