特許
J-GLOBAL ID:200903047509195422
回転式基板塗布装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
杉谷 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-317471
公開番号(公開出願番号):特開平9-134873
出願日: 1995年11月09日
公開日(公表日): 1997年05月20日
要約:
【要約】【課題】 飛散防止カップの一部の箇所に塗布液が集中して付着することを回避し、メンテナンス周期を延長できるようにする。【解決手段】 オリエンテーションフラットを有する基板を基板保持手段に保持させ、その基板に塗布液を供給する前に1°づつ回転させ、基板保持手段に保持した基板よりも直前に処理した基板が塗布液を受け止めたときの位相と異ならせ、オリエンテーションフラットの影響を受けて上方に飛散した塗布液が飛散防止カップに付着する箇所を移動し、一部の箇所に集中して塗布液が付着することを回避する。
請求項(抜粋):
切欠きを有する基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段を回転駆動する回転駆動手段と、前記基板保持手段に保持された前記基板の回転中心相当箇所に塗布液を供給する塗布液供給手段と、塗布時に前記基板上から飛散する塗布液を受け止めて回収する飛散防止カップと、を備えた回転式基板塗布装置において、前記塗布液供給手段による塗布液の供給前に、保持基板よりも直前に処理した基板が塗布液を受け止めたときの位相と異ならせるように前記基板保持手段を回転させる回転制御手段を設けてあることを特徴とする回転式基板塗布装置。
IPC (5件):
H01L 21/027
, B05C 11/08
, G03F 7/16 502
, H01L 21/225
, H01L 21/31
FI (5件):
H01L 21/30 564 C
, B05C 11/08
, G03F 7/16 502
, H01L 21/225 R
, H01L 21/31 A
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