特許
J-GLOBAL ID:200903047523325070
共有するワード線およびデジット線を有するMRAM
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大貫 進介 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-560585
公開番号(公開出願番号):特表2002-520767
出願日: 1999年07月15日
公開日(公表日): 2002年07月09日
要約:
【要約】高速かつ高密度磁気抵抗ランダム・アクセス・メモリ(MRAM)装置(30)が提供される。MRAM装置は、ポリシリコンワード線(39a)を使用し、それは配線スペースを節約する。さらに、ワード線は接続線(44a)によってデジット線(38a)に接続され、それはトランジスタ(43a,40a)満の電気的抵抗を減らす。接続線の配置はデジット電流制御(33a)からトランジスタ(43a)までの伝搬時間を減少させ、メモリのサイクル時間を改善する。
請求項(抜粋):
磁気ランダム・アクセス・メモリ・ユニットであって、 非磁性層によって分離された第1および第2磁性層を有する磁気メモリ・セル、および 前記磁気メモリ・セルを活性化するために前記磁気メモリ・セルに直列に接続されたメモリ・セル・スイッチ、を含むメモリ要素と、 前記第1磁気層上に配置され、前記第1磁気層に電気的に結合されたビット線と、 前記メモリ・セルの近傍に配置され、前記メモリ・セルからは電気的に絶縁され、かつ前記ビット線とは直角に配置されたデジット線と、 前記デジット線と平行して配置され、前記メモリ・セル・スイッチを制御するために前記メモリ・セル・スイッチに結合されるワード線と、 前記デジット線を前記ワード線に電気的に接続する接続線と、 から構成されることを特徴とする磁気ランダム・アクセス・メモリ・ユニット。
IPC (4件):
G11C 11/14
, G11C 11/15
, H01L 27/105
, H01L 43/08
FI (4件):
G11C 11/14 Z
, G11C 11/15
, H01L 43/08 Z
, H01L 27/10 447
Fターム (8件):
5F083HA10
, 5F083JA36
, 5F083JA37
, 5F083JA39
, 5F083KA01
, 5F083KA05
, 5F083LA12
, 5F083LA16
引用特許:
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