特許
J-GLOBAL ID：200903047526313960
遷移金属存在下での過酸化物によるケミカルパルプの脱リグニン
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 辰雄 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-501702
公開番号（公開出願番号）：特表平10-501587
出願日： 1995年06月19日
公開日（公表日）： 1998年02月10日
要約：
【要約】本発明はケミカルパルプ、例えば、硫酸パルプまたは亜硫酸パルプの脱リグニン方法に関するものであり、その方法においてパルプが活性化Ti族、V族またはCr族遷移金属、例えば、モリブデン、バナジウムまたはタングステンの存在下で過酸化物及び/または過酸により処理される。本発明に必須の概念は、少なくとも一種のヘテロ原子、例えば、Si、PまたはBを含む化合物(これは活性化遷移金属とともにヘテロポリ酸を生成することができる)がパルプに添加されることである。パルプへの活性化遷移金属及びヘテロ原子の供給は、例えば、その溶液に導入される一種の同じアルカリ溶液中で行われてもよく、または溶液中で生成されるシリコモリブデン酸型の化合物の形態で行われてもよい。過酸化物及び/または過酸処理は漂白シーケンスの一部を構成してもよく、これは、潜在的なその他の処理工程として、例えば、酸素による処理及び重金属、例えば、鉄、マンガン及び/または銅の除去のためのキレート化を含む。
請求項（抜粋）：
ケミカルパルプを活性化Ti族、V族またはCr族の遷移金属の存在下で過酸化物または過酸で処理するケミカルパルプの脱リグニン方法であって、少なくとも一種のヘテロ原子、例えば、Si、PまたはBを含む化合物(これは該活性化遷移金属とともにヘテロポリ酸を生成することができる)を該パルプに添加することを特徴とする脱リグニン方法。
引用特許：
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