特許

J-GLOBAL ID：200903047526356626

絶縁膜の欠陥修復方法

発明者： 上柿 真也 ,  岩田 充浩 ,  吉田 光伸
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-010504
公開番号（公開出願番号）：特開2005-142521
出願日： 2004年01月19日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：

【課題】基板上に形成された絶縁膜に存在する欠陥領域の修復を容易に行うことができる修復方法を提供する。【解決手段】基板1上に形成された一層ないし多層の絶縁膜2,3に存在する欠陥領域を検査する工程、検査によって欠陥領域が見出されたとき、その欠陥領域を除去する工程、絶縁材を含有するかまたは含有しない溶液を、除去された欠陥領域とその周囲の表面を覆うのに十分であるが欠陥領域の修復には不十分な量で塗布して乾燥する予備塗布工程、および絶縁材を含む液滴12を除去された欠陥領域に塗布して乾燥する本塗布工程からなることを特徴とする絶縁膜の欠陥修復方法。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

基板上に形成された一層ないし多層の絶縁膜に存在する欠陥領域を検査する工程、 検査によって欠陥領域が見出されたとき、その欠陥領域を除去する工程、 絶縁材を含有するかまたは含有しない溶液を、除去された欠陥領域とその周囲の表面を覆うのに十分であるが欠陥領域の修復には不十分な量で塗布して乾燥する予備塗布工程、 および絶縁材を含む液滴を除去された欠陥領域に塗布して乾燥する本塗布工程からなることを特徴とする絶縁膜の欠陥修復方法。

IPC (4件)：

H01L21/316 ,  G02F1/1333 ,  H01L21/302 ,  H01L21/768

FI (4件)：

H01L21/316 G ,  G02F1/1333 505 ,  H01L21/302 201B ,  H01L21/90 Q

Fターム (24件)：

2H090HC01 ,  2H090HC05 ,  2H090HC14 ,  2H090HC19 ,  5F004AA16 ,  5F004BA17 ,  5F004BA19 ,  5F004BB03 ,  5F004EA38 ,  5F004EB08 ,  5F033GG04 ,  5F033QQ54 ,  5F033SS22 ,  5F033TT04 ,  5F033VV15 ,  5F033XX33 ,  5F033XX36 ,  5F058AF04 ,  5F058AH02 ,  5F058AH04 ,  5F058BA20 ,  5F058BF46 ,  5F058BJ02 ,  5F058BJ04

引用特許：

出願人引用 (1件)

• カラーフィルターの修正方法及びカラーフィルターの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-069141   出願人：セイコーエプソン株式会社

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-264344
  
• カラーフィルタの修正方法及び修正装置及びカラーフィルタ及び液晶表示装置及びこの液晶表示装置を備えた装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-057225   出願人：キヤノン株式会社
• 平面ディスプレイパネル及び平面ディスプレイパネルの配線欠陥修正方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-167606   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭61-264344