特許
J-GLOBAL ID:200903047529514974
異物検査方法及びその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-098095
公開番号(公開出願番号):特開平5-218163
出願日: 1992年04月17日
公開日(公表日): 1993年08月27日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】ウェハの異物検査方法に関し、特に搬送途中のウェハ上の異物を実時間で検出する。【構成】半導体製造工程の量産ラインにおいて、異物検査装置を小型にし、半導体製造ラインの処理装置の入出力口あるいは処理装置間の搬送系に載置する。また、屈折率変化型のレンズアレイ、空間フィルタ、パターン情報除去回路により、ウェハ上の繰り返しパターン部上の異物を検出する装置を構成し、搬送途中のウェハ上異物検査を行う。
請求項(抜粋):
半導体製造工程において、量産立上げ時の異物の検出・分析・評価システムを量産ラインから分離してそのシステムの結果を量産ラインにフィードバックし、量産ラインでは異物モニタリング装置でモニタリングして半導体基板上の異物の発生状態を検出することを特徴とする半導体製造工程における異物発生状況解析方法。
IPC (3件):
H01L 21/66
, G01B 11/30
, G01N 21/88
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開昭64-069023
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特開平4-056245
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特開平2-015647
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