特許

J-GLOBAL ID：200903047534527111

基板処理装置

発明者： 立野 秀人 ,  柳川 秀宏
出願人/特許権者： 株式会社日立国際電気
代理人 (1件)： 梶原 辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-189380
公開番号（公開出願番号）：特開2003-007801
出願日： 2001年06月22日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】 ポッドオープナによるポッドの開放時の弊害の発生を防止する。【解決手段】 ポッド10とボート8との間でウエハ9を授受するウエハ授受ポート13にはポッド10のドア10aを着脱してウエハ出し入れ口10bを開閉するポッドオープナ20が設備されており、ポッドオープナ20のベース21にはベース21のウエハ出し入れ口22を被覆するチャンバ60が設置され、チャンバ60にはクロージャ収容室61に窒素ガス62を流通させる給気管63、排気管64が接続されている。ポッドの開放時に窒素ガス62をチャンバ60のクロージャ収容室61に充填し、クロージャ収容室61、ポッド10のウエハ収納室10cの空気や水分を窒素ガス62によってパージする。【効果】 ポッド内の大気のウエハ移載空間への放出を防止できるため、移載空間の汚染や酸素濃度の上昇、ウエハの酸化やパーティクル付着を防止できる。

請求項（抜粋）：

複数枚の基板が基板出し入れ口から収納されこの基板出し入れ口にはドアが着脱自在に装着されたキャリアを取り扱う基板処理装置であって、前記キャリアに対して前記基板を出し入れする基板授受ポートが設けられているとともに、この基板授受ポートには前記ドアを着脱して前記キャリアを開閉するキャリア開閉装置が設けられており、前記基板授受ポートには前記キャリアの前記基板出し入れ口を被覆するチャンバが設置され、このチャンバには前記キャリアの内部に前記基板出し入れ口から不活性ガスを導入させる給気管が接続されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/00 ,  B65G 49/07 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511

FI (6件)：

H01L 21/68 A ,  B65G 49/00 C ,  B65G 49/07 L ,  C23C 16/44 F ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 Q

Fターム (30件)：

4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030GA12 ,  4K030LA15 ,  5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031EA12 ,  5F031EA14 ,  5F031FA01 ,  5F031FA15 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031MA17 ,  5F031MA28 ,  5F031NA04 ,  5F031NA10 ,  5F031PA26 ,  5F045BB10 ,  5F045BB14 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045EB02 ,  5F045EB12 ,  5F045EE14 ,  5F045EM10 ,  5F045EN04 ,  5F045EN05 ,  5F045EN06