表面分析装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：篠原泰司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-094508
公開番号（公開出願番号）：特開平5-290796
出願日： 1992年04月14日
公開日（公表日）： 1993年11月05日
要約：

【要約】【目的】非破壊で試料表面の元素を二次元分析できる。【構成】YAGレーザー光源23を真空容器24内のターゲット25に照射して白色のX線を発生させることで、レーザープラズマ光源を構成する。このX線は分光器36で波長選別されて、軟X線結像素子28により、試料27に集光する。試料表面で発生する2次イオンの軌道上に質量分析器30又は飛行時間分析器を配置し、2次電子増倍管で2次イオンを検出して質量分析を行う。

請求項（抜粋）：

レーザープラズマ光源と、該レーザープラズマ光源より発せられた紫外光,真空紫外光又はX線を試料表面に集光させる集光光学系と、該試料から発せられた2次イオンを検出する質量分析器又は飛行時間分析器とを備えた表面分析装置。

IPC (2件)：

H01J 49/14 , G01N 23/22

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開平3-105841
特開昭62-226048
特開昭63-173942

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