特許

J-GLOBAL ID：200903047555067250

レーザビームの合成方法およびレーザビーム合成装置並びにレーザ加工装置

発明者： 荒井 邦夫 ,  西山 宏美
出願人/特許権者： 日立ビアメカニクス株式会社
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-103785
公開番号（公開出願番号）：特開2001-287069
出願日： 2000年04月05日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】【課題】 レーザ発振器の出力が小さい場合であっても、大径の穴を加工することができ、作業能率および加工品質を向上させることができるレーザビームの合成方法およびレーザビーム合成装置並びにレーザ加工装置を提供すること。【解決手段】 レーザ発振器1a、1bから出力される互いに平行なP波の直線偏光ビーム2a、2bを、入射角45度で入射する直線偏光のP波を透過させ、直線偏光のS波を反射するビームスプリッタ9a、9bに入射させる。ビームスプリッタ9aを透過した透過ビーム2apを、λ/4板13と全反射鏡14とにより、ビーム2aと位相が90度ずれた直線偏向のS波のビーム2aSに変換し、透過ビーム2bpが出射する点SBに入射させる。点SBにおいて反射するビーム2aSの光軸と透過ビーム2bpの光軸は同軸になるから、楕円偏光のビームWAのビームエネルギはビーム2aSと透過ビーム2bの和になる。

請求項（抜粋）：

2個のレーザ発振器からそれぞれ出射される2本のレーザビームの一方の直線偏光のS波と、他方の前記S波と直角な直線偏光のP波と、を同軸にして、1本の楕円偏光ビームを合成することを特徴とするレーザビームの合成方法。

IPC (3件)：

B23K 26/06 ,  H01S 3/00 ,  H05K 3/00

FI (3件)：

B23K 26/06 E ,  H01S 3/00 B ,  H05K 3/00 N

Fターム (7件)：

4E068CB10 ,  4E068CD05 ,  4E068CD08 ,  5F072KK09 ,  5F072KK15 ,  5F072MM07 ,  5F072YY06