特許

J-GLOBAL ID：200903047563297028

任意のサイズのコンプライアント媒体上に高解像度の3次元インプリントパターンを複製する方法

発明者： アルバート・エイチ・ジーンズ
出願人/特許権者： ヒューレット-パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.
代理人 (2件)： 後藤 政喜 ,  松田 嘉夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-126881
公開番号（公開出願番号）：特開2004-327994
出願日： 2004年04月22日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

【課題】 可撓性があり、耐久性があり、ベルトあるいはシリンダと接続されることができるインプリントスタンプ用コンプライアント媒体を提供する。【解決手段】 コンプライアント媒体(45)上にインプリントパターン(20q)を複製する方法は、インプリントパターン(20s)の像がフォトポリマーシム(36)を形成するために、フォトポリマー層(35)にインプリントスタンプ(20a)を配置後さらに分離すること(P)、前記フォトポリマーシム(36)を覆うコンプライアント媒体(45)を形成し、前記フォトポリマーシム(36)内の前記インプリントパターン(20s)を前記コンプライアント媒体(45)に転写すること、接着層が前記コンプライアント媒体に接着されるようにすること、前記フォトポリマーシム(36)から前記コンプライアント媒体(45)を分離すること、を含むことを特徴とする。【選択図】 図27

請求項（抜粋）：

コンプライアント媒体上に高解像度の3次元インプリントパターンを複製する方法であって、 マスター基板をパターニングし、その後エッチングして、該基板内にインプリントパターンを画定することにより、該マスター基板上にインプリントスタンプを形成すること、 前記インプリントパターン上に剥離層を堆積することであって、該剥離層は前記インプリントパターンをコンフォーマルコーティングするような第1の厚みを有する、剥離層を堆積すること、 前記剥離層上に、前記インプリントパターンを完全に覆うような第1の深さまでシリコーンベースエラストマ層を堆積すること、 前記マスター基板を加熱することにより、前記シリコーンベースエラストマ層を硬化させること、 前記剥離層から前記シリコーンベースエラストマ層を剥離すること、 前記インプリントスタンプを包囲する前記シリコーンベースエラストマ層の余分な部分から前記インプリントスタンプを分離すること、 前記マスター基板からさらに別のインプリントスタンプを形成するために、必要に応じて上記のステップを繰り返すこと、 第4の厚みを有する平坦で、コンプライアントなシリコーンゴムバッキング上に、第3の厚みを有する平坦で、薄いプラスチックフィルムを配置すること、 フォトポリマー溶液で前記薄いプラスチックフィルムの表面をコーティングすること、 第5の厚みを有するフォトポリマー層を形成するために、前記プラスチックフィルムの前記表面上に前記フォトポリマー溶液を伸ばすこと、 前記フォトポリマー層上に前記インプリントスタンプのパターニングされた表面を配置すること、 前記フォトポリマー層に、第1の時間だけ所定の輝度の紫外線を照射することにより、前記フォトポリマー層を硬化させることであって、それにより、前記フォトポリマー層上に前記インプリントスタンプの場所を固定し、前記フォトポリマー層に、前記インプリントスタンプの前記パターニングされた表面上にある前記インプリントパターンの像を転写するような、硬化させること、 前記インプリントパターンの像がフォトポリマーシムを画定するようにするために、前記フォトポリマー層から前記インプリントスタンプを分離すること、 前記フォトポリマーシムを加熱することにより前記フォトポリマーシムを後硬化させること、 前記フォトポリマーシム上に、第6の厚みを有するフルオロカーボン材料のコーティングを堆積すること、 前記シリコーンゴムバッキングから前記薄いプラスチックフィルムを分離すること、 前記フォトポリマーシムを支持基板に取り付けること、 前記支持基板上に、第1の高さを有するシムストックを取り付けることであって、該シムストックは前記フォトポリマーシムに隣接して配置され、前記フォトポリマーシムから第1の距離だけ離隔して配置されるような、シムストックを取り付けること、 前記フォトポリマーシムおよび前記シムストックに、シリコーンベースエラストマ材料およびアモルファスフルオロポリマー材料からなるグループから選択されるコンプライアント材料をコーティングすること、 前記フォトポリマーシムおよび前記シムストック上に前記コンプライアント材料を伸ばすことであって、それにより前記フォトポリマーシムおよび前記シムストックを覆うコンプライアント媒体を形成し、前記フォトポリマーシム内の前記インプリントパターンを前記コンプライアント媒体に転写するような、伸ばすこと、 前記支持基板を加熱すること、 前記支持基板を冷却すること、 前記コンプライアント媒体から前記シムストックを分離すること、 前記コンプライアント媒体の表面に転写接着層の第1の接着表面を被着することであって、それにより該転写接着層が前記コンプライアント媒体に接着されるようにすることであって、第7の厚みを有しおよび第2の接着表面を含むような、該転写接着層が前記コンプライアント媒体に接着されるようにすること、 前記支持基板あるいは前記フォトポリマーシムのうちの選択された方から前記コンプライアント媒体を分離することを含むことを特徴とする、複製する方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  G03F7/20 501

Fターム (2件)：

2H097AA20 ,  5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-108140
  
• 樹脂板製造用鋳型の製造方法および樹脂板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-217867   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 特開平3-108140
  
• 特開平3-108140