特許

J-GLOBAL ID：200903047568543396

投影露光装置

発明者： 中原 兼文
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-352888
公開番号（公開出願番号）：特開平6-181166
出願日： 1992年12月14日
公開日（公表日）： 1994年06月28日
要約：

【要約】【目的】 比較的σ値の小さな照明光学系を用いて各種のレチクルにそれぞれ対応して高解像度かつ大焦点深度の投影露光を光量損失や照度均一化を低下させることなく実現することのできる投影露光装置を提供する。【構成】 第1の位置に保持された転写原版を照明光学系から照射されるほぼ均一強度分布の照明光で照明し、転写原版に形成された微細パターンの像を投影光学系によって感光基板上に結像投影する投影露光装置において、露光工程の間に亙って転写原版の入射側の予め定められた第2の位置にほぼ平行に配置され、照明光の入射を受けてその入射光軸に対して予め定められた角度だけ微細パターンの方向性に応じた方向へ偏向した出射光で転写原版を照明する光学的偏向板と、転写原版を露光工程のための第1の位置と原版保管のための第3の位置との間で搬出入する搬送動作と、光学的偏向板を第2の位置と偏向板保管のための第4の位置との間で搬出入する搬送動作とを少なくとも一部において共用する搬送系とを設けてある。

請求項（抜粋）：

予め定められた第1の位置に保持されたフォトマスクまたはレチクル等の転写原版を照明光学系から照射されるほぼ均一な強度分布の照明光によって照明し、前記転写原版に形成された微細パターンの像を投影光学系によって感光基板上に結像投影する投影露光装置において、露光工程の間に亙って前記転写原版の入射側の予め定められた第2の位置にほぼ平行に配置され、前記照明光の入射を受けてその入射光軸に対して予め定められた角度だけ前記微細パターンの方向性に応じた方向へ偏向した出射光で前記転写原版を照明する光学的偏向板と、前記転写原版を前記露光工程のための前記第1の位置と原版保管のための第3の位置との間で搬出入する搬送動作と、前記光学的偏向板を前記第2の位置と偏向板保管のための第4の位置との間で搬出入する搬送動作とを少なくとも一部において共用する搬送系、とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 J ,  H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 N