特許
J-GLOBAL ID：200903047574025623
真空濃縮浸漬装置の浸漬槽
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江原 省吾 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-058617
公開番号（公開出願番号）：特開平7-264971
出願日： 1994年03月29日
公開日（公表日）： 1995年10月17日
要約：
【要約】【目的】 外圧強度、製造コスト面で優れ、かつ、低浴比を実現し得る真空濃縮浸漬装置の浸漬槽を提供すること。【構成】 浸漬槽1の形状を円筒横型とし、かつ、内部を円筒の軸線に平行な2枚の縦隔壁板2、2で中央室3と両側室4、4とに仕切り、中央室3を浸漬室とし、両側室4、4を非浸漬室とすると共に、この両側室4、4内を中央室3内と同一圧力に保持させた。
請求項（抜粋）：
浸漬槽に収容された浸漬液に浸漬原料を浸漬し、浸漬槽内を脱気して真空化し、浸漬液の沸点を下げて水分を蒸発させて浸漬液の濃度を徐々に上げて浸漬原料内の水分と浸漬液中の固形分とを置換させる真空濃縮浸漬装置の浸漬槽において、浸漬槽の形状を円筒横型とし、かつ、内部を円筒の軸線に平行な2枚の縦隔壁板で中央室と両側室とに仕切り、中央室を浸漬室とし、両側室を非浸漬室とすると共に、この両側室内を中央室内と同一圧力に保持させたことを特徴とする真空濃縮浸漬装置の浸漬槽。
IPC (3件)：
A23B 7/08
, A23L 1/00
, A23P 1/00
