特許

J-GLOBAL ID：200903047577974200

レーザマーキング方法

発明者： 松村 幸紀 ,  田中 宏和
出願人/特許権者： 株式会社小松製作所
代理人 (1件)： 木村 高久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-195559
公開番号（公開出願番号）：特開平8-057666
出願日： 1994年08月19日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：

【要約】【目的】液晶の透過率ばらつきを低減して画像むらの少ない刻印をなし得ることを目的とする。【構成】所要の刻印パターンが表示された液晶マスク上にレーザビームをラスタ走査させ、該液晶マスクを通過したレーザビームによって被加工物をマーキングするレーザマーキング方法において、レーザビームの走査が終了した走査線単位に、液晶マスクの刻印パターンを順次次の刻印パターンに切り換えるようにしている。

請求項（抜粋）：

所要の刻印パターンが表示された液晶マスク上にレーザビームをラスタ走査させ、該液晶マスクを通過したレーザビームによって被加工物をマーキングするレーザマーキング方法において、レーザビームの走査が終了した走査線単位に、液晶マスクの刻印パターンを順次次の刻印パターンに切り換えることを特徴とするレーザマーキング方法。

IPC (3件)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  G02F 1/13 505