特許

J-GLOBAL ID：200903047598365832

排水処理方法

発明者： 小島 均 ,  川島 信一郎 ,  藤本 隆 ,  杉立 淳
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (2件)： 吉田 研二 ,  石田 純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-154983
公開番号（公開出願番号）：特開2004-351379
出願日： 2003年05月30日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：

【課題】凝集剤使用量と汚泥の発生量を削減する排水処理方法を提供する。【解決手段】製造工程から発生する界面活性剤水溶液を含む界面活性剤含有排水を界面活性剤用排水ラインに流し、界面活性剤用排水ラインにおいて界面活性剤含有排水を処理し、前記製造工程から発生する顔料分散液、ワックス分散液、シリカ分散液、及びエマルション水溶液のうち少なくとも1つを含む非界面活性剤含有排水を非界面活性剤用排水ラインに流し、非界面活性剤用排水ラインにおいて非界面活性剤含有排水を処理する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

所定の製造過程から発生する界面活性剤水溶液並びに顔料分散液、ワックス分散液、シリカ分散液、及びエマルション水溶液のうち少なくとも1つを処理対象とする排水処理方法であって、 前記製造工程から発生する界面活性剤水溶液を含む界面活性剤含有排水を界面活性剤用排水ラインに流し、界面活性剤用排水ラインにおいて界面活性剤含有排水を処理する工程と、 前記製造工程から発生する顔料分散液、ワックス分散液、シリカ分散液、及びエマルション水溶液のうち少なくとも1つを含む非界面活性剤含有排水を非界面活性剤用排水ラインに流し、非界面活性剤用排水ラインにおいて非界面活性剤含有排水を処理する工程と、 を備えたことを特徴とする排水処理方法。

IPC (2件)：

C02F1/56 ,  C02F1/24

FI (4件)：

C02F1/56 H ,  C02F1/56 G ,  C02F1/56 K ,  C02F1/24 C

Fターム (18件)：

4D015BA21 ,  4D015BA24 ,  4D015BB09 ,  4D015BB12 ,  4D015CA08 ,  4D015CA09 ,  4D015CA20 ,  4D015DA13 ,  4D015DB02 ,  4D015DC08 ,  4D015EA32 ,  4D015EA33 ,  4D037AA13 ,  4D037AB02 ,  4D037AB05 ,  4D037AB17 ,  4D037BA03 ,  4D037CA08