特許
J-GLOBAL ID：200903047601160597
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-242416
公開番号（公開出願番号）：特開2007-059188
出願日： 2005年08月24日
公開日（公表日）： 2007年03月08日
要約：
【課題】 生産効率を低下することなく、付着した異物、ゴミ等への対策が取られ、発光駆動時にリーク電流のない安定した有機EL素子の製造方法及び有機EL素子の提供。【解決手段】 基板上に、少なくとも第1電極を含む陽極層と、発光層を含む有機化合物層と、第2電極を含む陰極層とを順次形成する工程を有する製造装置を使用し、前記発光層を含む有機化合物層の少なくとも一つの層が気相堆積装置を用いて形成する有機EL素子の製造方法において、前記気相堆積装置は蒸着室と、基板保持手段と、マスク配置手段と、原料蒸発手段とを有し、前記原料蒸発手段は前記堆積膜形成領域の端辺の法線の外側に配設され、堆積膜を形成する時、前記原料蒸発手段と前記堆積膜形成領域との位置関係は、前記堆積膜形成領域に対して前記原料蒸発手段が少なくとも2つの位置関係になるようにして行うことを特徴とする有機EL素子の製造方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に、少なくとも第1電極を含む陽極層と、発光層を含む有機化合物層と、第2電極を含む陰極層とを順次形成する工程を有する製造装置を使用し、前記発光層を含む有機化合物層の少なくとも一つの層が気相堆積装置を用いて形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
前記気相堆積装置は減圧手段で減圧される蒸着室と、基板の基板保持手段と、前記基板に対して堆積膜形成領域を規制するマスクのマスク配置手段と、原料を蒸発させる原料蒸発手段とを有し、
前記原料蒸発手段は前記堆積膜形成領域の端辺の法線の外側に配設され、
前記気相堆積装置により前記堆積膜形成領域に堆積膜を形成する時、
前記原料蒸発手段と前記堆積膜形成領域との位置関係は、
前記堆積膜形成領域に対して前記原料蒸発手段が少なくとも2つの位置関係になるようにして行うことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
IPC (4件)：
H05B 33/10
, H01L 51/50
, C23C 14/12
, C23C 14/24
H05B33/10
, H05B33/14 A
, C23C14/12
, C23C14/24 R
3K007AB03
, 3K007AB08
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029AA25
, 4K029BA62
, 4K029CA01
, 4K029DA12
, 4K029DB14
, 4K029DB18
, 4K029EA08
, 4K029JA01
, 4K029KA01
