二次電子顕微鏡法と収束イオンビーム・システムを使用した半導体製造方法のフィードフォワードおよびフィードバック制御

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：岡部正夫 , 加藤伸晃 , 産形和央 , 臼井伸一 , 越智隆夫 , 本宮照久 , 朝日伸光 , 三山勝巳
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-572079
公開番号（公開出願番号）：特表2005-518552
出願日： 2003年02月24日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：

結晶学のためのシステム(70)はサンプル・ホルダ(74)、電子ビームを発生させるための電子源(76)、電子ビームと結晶サンプルの間の相対的移動を制御するための走査用アクチュエータ(80)を含み、走査用アクチュエータはサンプル領域内で間隔を置いた一連の点に電子ビームを方向付けるように制御可能である。本システムはまた、結晶サンプルからの電子線回折に基づいて結晶学的データを作り出すため、およびサンプル領域を特徴付けるために充分なデータが入手されたかどうかを判定するための画像プロセッサ(84)も含む。本システムはさらに、入手されるデータが結晶サンプル内の様々な粒子を表わすように点の間隔を設けるように走査用アクチュエータを制御するための制御器(86)を含む。他の実施形態では、本発明は結晶学のための1つまたは複数のイオンビーム(178、188)およびイオンビーム/電子ビーム(218、228)の組合せを含む。結晶学的測定データは粒子サイズおよび配向であることが可能であり、それらは半導体の製造工程のインライン制御のために(CVDステーションのような)蒸着ステーションおよび化学機械的平坦化ステーションにそれぞれフィードバックおよびフィードフォワードされる。

請求項（抜粋）：

結晶学のためのシステムであって、サンプル領域の特徴付けのための結晶サンプルを保持するサンプル・ホルダ、電子ビームを発生させるための電子源、電子ビームと結晶サンプルの間の相対的移動を制御するための走査用アクチュエータを含み、走査用アクチュエータがサンプル領域内で間隔を置いた一連の点に電子ビームを方向付けるように制御可能であり、結晶サンプルから由来する電子線回折に基づいて結晶学的データを作り出すための第1の処理システム、サンプル領域を特徴付けるために充分なデータが入手されたかどうかを判定するように構成される第2の処理システム、および入手されるデータが結晶サンプル内の様々な粒子を表わすように点の間隔を設けるように走査用アクチュエータを制御するための制御器を含むシステム。

IPC (3件)：

G01N23/20 , G01N23/225 , H01L21/304

FI (3件)：

G01N23/20 , G01N23/225 , H01L21/304 622R

Fターム (40件)：

2G001AA03 , 2G001AA05 , 2G001AA10 , 2G001BA07 , 2G001BA15 , 2G001BA18 , 2G001BA30 , 2G001CA03 , 2G001CA05 , 2G001CA10 , 2G001DA01 , 2G001DA09 , 2G001FA01 , 2G001FA02 , 2G001FA29 , 2G001GA04 , 2G001GA06 , 2G001GA13 , 2G001GA14 , 2G001HA12 , 2G001HA14 , 2G001JA01 , 2G001JA03 , 2G001JA07 , 2G001JA08 , 2G001JA13 , 2G001JA15 , 2G001KA08 , 2G001KA20 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001NA06 , 2G001NA13 , 2G001NA17 , 2G001PA11 , 2G001PA12 , 2G001QA01 , 2G001RA01 , 2G001RA02 , 2G001RA04

引用特許：

出願人引用 (5件)

米国仮特許出願番号60/359,222号
米国特許出願番号10/121,370号
米国特許第5,653,894号

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