特許
J-GLOBAL ID：200903047617561834
投影露光装置および方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-213876
公開番号（公開出願番号）：特開平11-045850
出願日： 1997年07月25日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：
【要約】【課題】 除振装置に搭載された投影露光装置において、その除振装置の機能を損ねることなく、その投影露光装置の露光精度の向上を図る。【解決手段】 投影光学系と、基板を搭載して該投影光学系の光軸に垂直な方向に移動可能な基板ステージと、該投影光学系および基板ステージを支持する本体構造体と、該本体構造体を支持するとともに該本体構造体の床からの振動を除振するための除振装置とを具備する投影露光装置において、前記除振装置および前記ステージから前記本体構造体に作用する力を計測し、該計測結果に基づいて前記基板のアライメント計測値および/またはステージの位置決めに補正をかける。
請求項（抜粋）：
投影光学系と、基板を搭載して該投影光学系の光軸に垂直な方向に移動可能な基板ステージと、該投影光学系および基板ステージを支持する本体構造体と、該本体構造体を支持するとともに床からの振動を除振するための除振装置と、前記基板ステージに搭載された基板を所定の複数のショット位置に順次移動すべく該基板ステージを位置決めし、各ショット位置に位置決め後、原版上の回路パターンを所定波長の照明光で照明し、該基板ステージ上の基板上に前記投影光学系を介して投影露光する制御手段とを具備する投影露光装置において、前記除振装置から前記本体構造体に作用する力を計測する手段と、該計測手段の計測結果に基づいて前記ステージの位置決めを補正する手段を設けたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 503 F
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 518
