特許
J-GLOBAL ID：200903047629377290
処理液塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 武彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-126611
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335527
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：
【要約】【目的】 一方向に延びる処理液供給口を有するノズルを備えた処理液塗布装置において、不要な場所に付着した処理液による基板への汚染を抑える。【構造】 レジスト液塗布装置1は、角型基板の表面に所定の処理液を塗布して薄膜を形成するための装置であり、基板保持部2と塗布部3と洗浄部4とを備えている。基板保持部2は、角型基板を保持する。塗布部3は、一方向に延びるスリットを有し、角型基板の表面に沿って相対移動しながら角型基板の表面にレジスト液液を供給するノズル20を含む。洗浄部4は、角型基板にレジスト液が塗布された後に、角型基板の端縁に付着した不要薄膜を洗浄する洗浄装置39を含む。
請求項（抜粋）：
基板の表面に所定の処理液を塗布するための処理液塗布装置であって、前記基板を保持する基板保持部と、一方向に延びる処理液供給口を有し、前記基板の表面に沿う方向に相対移動しながら前記基板の表面に処理液を供給するノズルを含む処理液供給手段と、前記処理液供給手段によって前記基板表面に塗布された処理液のうちの基板端縁に付着した処理液を洗浄する端縁洗浄手段を含む洗浄手段と、を備えた処理液塗布装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, B05C 5/02
, B05C 11/08
, G03F 7/16 502
H01L 21/30 577
, H01L 21/30 564 Z
