特許

J-GLOBAL ID：200903047634627296

回転薬液洗浄方法及び洗浄装置

発明者： 大見 忠弘 ,  米川 直道 ,  國本 文智 ,  玉木 竹男 ,  堀木 泰之 ,  加地 利光
出願人/特許権者： 大見 忠弘 ,  日曹エンジニアリング株式会社 ,  株式会社エムテーシー
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-150897
公開番号（公開出願番号）：特開平7-014817
出願日： 1993年06月22日
公開日（公表日）： 1995年01月17日
要約：

【要約】【目的】 より清浄なシリコンウエハ表面の提供による高性能半導体の生産、半導体生産の低コスト化、また、新しい洗浄方法及び装置によってなる、薬液使用量の減少、洗浄時間の短縮、使用薬品数の減少、廃液回収の容易さ及び装置に対する設備投資の減少による総合的な低コスト化を可能とする洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。【構成】 複数の薬液洗浄工程を有する洗浄方法において、被洗浄物を洗浄槽内に水平に配置し、該洗浄槽を密閉した後、該被洗浄物を回転させつつ、薬液流を被洗浄物表面上方から連続的に該洗浄物の表面に供給する薬液洗浄工程と、超純水を供給する超純水洗浄工程とをそれぞれの薬液について同一洗浄槽内において順次行い、洗浄後乾燥を行うことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

複数の薬液洗浄工程を有する洗浄方法において、被洗浄物を洗浄槽内に水平に配置し、該洗浄槽を密閉した後、該被洗浄物を回転させつつ、薬液流を被洗浄物表面上方から連続的に該洗浄物の表面に供給する薬液洗浄工程と、超純水を供給する超純水洗浄工程とをそれぞれの薬液について同一洗浄槽内において順次行い、洗浄後乾燥を行うことを特徴とする回転薬液洗浄方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 回転式基板処理装置の基板回転保持具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-276915   出願人：大日本スクリーン製造株式会社