特許
J-GLOBAL ID：200903047636765335
電子線照射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-154207
公開番号（公開出願番号）：特開平6-342834
出願日： 1993年06月01日
公開日（公表日）： 1994年12月13日
要約：
【要約】【目的】 電子線を用いて試料の観測や加工等を行う際に、試料を交換する度に真空チャンバ全体の真空引きを行う必要がないようにする。【構成】 フィラメント1と、偏向コイル2と、加速コイル3と、収束レンズ4とを、高真空チャンバ5内に格納し、電子線の散乱防止用のガードリング7と、電子線の照射されるウエハ8を搭載するためのウエハステージ9を含む試料搬送系とを、高真空チャンバ5とは別の多段真空チャンバ10内に格納する。多段真空チャンバ10は処理用真空チャンバ11と搬送用真空チャンバ12とからなり、処理用真空チャンバ11と搬送用真空チャンバ12と常圧室18との間には、ウエハ8のロード及びアンロード時に各真空チャンバ11、12の真空度に影響を与えない真空ローダ15、20を備えている。
請求項（抜粋）：
電子線を発生する電子線発生源と、前記電子線を加速するための磁場を発生する加速器と、前記電子線の射出される方向を制御するための磁場を発生する偏向器と、前記電子線を収束させるための収束器とを、第1の真空チャンバ内に格納し、前記電子線の散乱を防止するための散乱防止器と、前記電子線の照射される試料を搭載するための試料台を含む試料搬送系とを、前記第1の真空チャンバとは別の第2の真空チャンバ内に格納したことを特徴とする電子線照射装置。
IPC (2件)：
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