特許
J-GLOBAL ID:200903047652026968

シクロヘキセン誘導体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-227036
公開番号(公開出願番号):特開2003-040820
出願日: 2001年07月27日
公開日(公表日): 2003年02月13日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 2-シクロヘキセン-1-オールなどのシクロヘキセン誘導体を工業的に有利に製造し得る方法を提供する。【解決手段】 一般式IIのオクタジエン誘導体を、イミダゾリデン化合物が配位したルテニウム錯体の存在下にメタセシス反応させる一般式Iのシクロヘキセン誘導体の製造方法。(Xは水酸基、アルコキシル基アシルオキシ基又はアリールオキシ基を示す。)
請求項(抜粋):
一般式(II)【化1】(式中、Xは水酸基、アルコキシル基、アシルオキシ基またはアリールオキシ基を表す。)で示されるオクタジエン誘導体を、イミダゾリデン化合物が配位したルテニウム錯体の存在下にメタセシス反応させることを特徴とする一般式(I)【化2】(式中、Xは上記定義のとおりである。)で示されるシクロヘキセン誘導体の製造方法。
IPC (8件):
C07C 29/56 ,  C07C 35/18 ,  C07C 41/18 ,  C07C 43/188 ,  C07C 43/243 ,  C07C 67/28 ,  C07C 69/145 ,  C07B 61/00 300
FI (8件):
C07C 29/56 Z ,  C07C 35/18 ,  C07C 41/18 ,  C07C 43/188 ,  C07C 43/243 ,  C07C 67/28 ,  C07C 69/145 ,  C07B 61/00 300
Fターム (14件):
4H006AA02 ,  4H006AC28 ,  4H006AC29 ,  4H006BA23 ,  4H006BA47 ,  4H006BJ20 ,  4H006FC22 ,  4H006FC74 ,  4H006FE12 ,  4H006GP02 ,  4H006GP05 ,  4H006KA30 ,  4H039CA40 ,  4H039CH20

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