特許

J-GLOBAL ID：200903047657492150

ネガ型放射線感応レジスト組成物

発明者： 大森 克実 ,  佐藤 充 ,  田中 初幸 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-296579
公開番号（公開出願番号）：特開平6-123968
出願日： 1992年10月09日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：

【要約】【構成】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)架橋剤及び(C)酸発生剤を含有するネガ型の化学増幅型レジストに対して、(D)それぞれ3個以上のヒドロキシル基を有するベンゼン、ナフタレン及び9,10-アントラキノンの中から選ばれた少なくとも1種の化合物を配合したネガ型放射線感応レジスト組成物。【効果】 高解像度及び高感度で、かつ放射線の照射量の変化に対するレジストパターンの寸法変化量が少なく、断面形状の良好な矩形のレジストパターンが得られる。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)架橋剤及び(C)酸発生剤を含有するネガ型の化学増幅型レジストに対し、(D)それぞれ3個以上のヒドロキシル基を有するベンゼン、ナフタレン及び9,10-アントラキノンの中から選ばれた少なくとも1種の化合物を配合したことを特徴とするネガ型放射線感応レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027