液晶パネルの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-078311
公開番号（公開出願番号）：特開平9-244027
出願日： 1996年03月05日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】一画素を二分割配向処理した液晶パネルの製造方法であって、配向膜の材質および膜厚に対する制限が少なく、かつ視野角拡大範囲の偏りが少ない製造方法を提供する。【解決手段】一方の配向膜付基板の配向膜に、イオンビーム照射によってプレチルト角がほぼ0度の配向処理を施す。他方の配向膜付基板8の配向膜12に対する配向処理は、そのほぼ全面をラビング布30でラビングする第1工程(図7A)と、マスク32を通して第1領域18にイオンビーム26を照射する第2工程(図7B)と、マスク34を通して第2領域20に第2工程とはほぼ180度反対側からイオンビーム26を照射する第3工程(図7C)とを用いて行う。

請求項（抜粋）：

2枚の配向膜付基板間に液晶を挟んで成る液晶パネルであって、一方の配向膜付基板の配向膜におけるプレチルト角をほぼ0度にし、他方の配向膜付基板の配向膜における一画素に相当する領域を二分割してその第1領域および第2領域に互いに異なる配向処理を施した液晶パネルを製造する方法において、前記一方の配向膜付基板の配向膜に、イオンビーム照射によってプレチルト角がほぼ0度の配向処理を施し、かつ前記他方の配向膜付基板の配向膜に対する配向処理を、そのほぼ全面をラビングする第1工程と、マスクを通して前記第1領域にイオンビームを照射する第2工程と、マスクを通して前記第2領域に第2工程とは異なる方向からイオンビームを照射する第3工程とを用いて行うことを特徴とする液晶パネルの製造方法。

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