特許

J-GLOBAL ID：200903047681825144

露光装置および露光方法

発明者： 加藤 正紀
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-060967
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260692
出願日： 1999年03月09日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：

【要約】【課題】 露光パワーの劣化や各種レジストの使用により所要の露光時間が長くなっても、所要のステッピング精度などを確保しつつ高いスループットで露光動作を行う。【解決手段】 基板ステージ(17)上に載置された感光性基板(16)を投影光学系(15)に対してステッピング移動させつつ、所定のパターンが形成されたマスク(14)のパターンの像を感光性基板上の各露光領域に順次露光する。基板ステージのステッピング移動において基板ステージの停止すべき目標位置からの位置変動が所定の許容範囲内に収まった時点から感光性基板上の各露光領域へのマスクのパターンの像の露光を開始する時点までの待機時間を感光性基板上の各露光領域への露光時間に基づいて制御する。

請求項（抜粋）：

照明光を供給するための光源と、所定のパターンが形成されたマスクを前記光源からの光で照明するための照明光学系と、前記マスクからの光に基づいて前記マスクのパターンの像を感光性基板上に形成するための投影光学系と、前記感光性基板を保持して移動する基板ステージとを備え、前記投影光学系に対して前記基板ステージをステッピング移動させながら前記感光性基板上の各露光領域に前記マスクのパターンの像を順次露光する露光装置において、前記ステッピング移動において前記基板ステージの停止すべき目標位置からの位置変動が所定の許容範囲内に収まった時点から前記感光性基板上の各露光領域への前記マスクのパターンの像の露光を開始する時点までの待機時間を所定の露光条件に応じて制御するための制御系を備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22

FI (3件)：

H01L 21/30 516 B ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 516 D

Fターム (24件)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA02 ,  5F046CB03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB06 ,  5F046CB07 ,  5F046CB08 ,  5F046CB12 ,  5F046CB13 ,  5F046CB22 ,  5F046CB23 ,  5F046CC01 ,  5F046CC13 ,  5F046CC16 ,  5F046DA02 ,  5F046DA07 ,  5F046DA11 ,  5F046DA30 ,  5F046DB01 ,  5F046DB04 ,  5F046DB05 ,  5F046DC02 ,  5F046DC12