特許
J-GLOBAL ID：200903047699391842

噴霧装置

発明者：
山▲崎▼ 岩男

山▲崎▼ 岩男 について


出願人/特許権者：
ヤーマン株式会社

ヤーマン株式会社 について


代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-261486
公開番号（公開出願番号）：特開2008-079733
出願日： 2006年09月26日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：
【課題】殺菌処理が施されかつプラチナ微粒子が含まれる霧化成分を、肌面に噴霧することで、美容処理効果が高くしかも清浄性を向上させた美容処理を実現する。【解決手段】本発明の美容処理装置71は、水Wを貯留する貯留槽21を備えた霧化室27で、貯留されている水Wを霧化する霧化機構32と、この霧化機構32により得られた霧化成分Mを、UVランプ30を用いて生成したオゾンと気液接触させて殺菌するための霧化成分殺菌室36と、この殺菌された霧化成分Mをユーザの顔などに噴霧するための噴射ノズル3と、噴射ノズル3の前段の清浄な状態の霧化成分M1の移送経路上に配置されたプラチナメッキの施されている一対の放電電極75、76とを備える。【選択図】図10
請求項（抜粋）：
液体が貯留される液体貯留槽を有し、この液体貯留槽内に貯留された前記液体を霧化する霧化機構と、 前記霧化機構で霧化される前の液体の浄化若しくは該霧化機構で液体を霧化して生成された霧化成分の浄化により、清浄な状態の霧化成分を得る清浄機構と、 前記清浄機構により得られた前記清浄な状態の霧化成分に含ませるプラチナ微粒子を生成するプラチナ微粒子生成機構と、 前記プラチナ微粒子生成機構により生成された前記プラチナ微粒子の含まれる前記清浄な状態の霧化成分を前記筐体の外部に噴出する噴出機構と、 を具備することを特徴とする美容処理装置。
IPC (3件)：
A61H 33/12 ,  B05B 17/06 ,  A45D 44/22
FI (6件)：
A61H33/12 A ,  B05B17/06 ,  A61H33/12 B ,  A61H33/12 G ,  A61H33/12 V ,  A45D44/22 F
Fターム (15件)：
4C094AA04 ,  4C094DD09 ,  4C094DD32 ,  4C094EE03 ,  4C094EE06 ,  4C094GG06 ,  4D074AA05 ,  4D074BB03 ,  4D074BB06 ,  4D074CC02 ,  4D074DD01 ,  4D074FF06 ,  4D074FF08 ,  4D074FF11 ,  4D074FF14
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 特許第3615514号公報
審査官引用 (5件)
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