特許

J-GLOBAL ID：200903047716299815

投影リソグラフィ用フォトマスク基板及びその作成方法

発明者： バーキー,ジョージ ディー ,  ムーア,リサ エイ ,  ピアーソン,ミッシェル ディー
出願人/特許権者： コーニング インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-605531
公開番号（公開出願番号）：特表2002-539065
出願日： 2000年02月11日
公開日（公表日）： 2002年11月19日
要約：

【要約】発明は、リソグラフィ用フォトマスク及びフォトマスクブランクの作成方法である。リソグラフィ用フォトマスク及びフォトマスクブランクの作成方法は、OH含有量が50ppmより少ないオキシフッ化ケイ素ガラスチューブを作成する工程を含む。発明の方法は、オキシフッ化ケイ素ガラスチューブにスリットを入れる工程、オキシフッ化ケイ素ガラスチューブを平板化する工程、平板化されたスリット入りオキシフッ化ケイ素ガラスチューブを平表面をもつフォトマスクブランクに二次成形する工程をさらに含む。発明はリソグラフィ用ガラスマスクプレフォームを含む。リソグラフィ用ガラスマスクプレフォームは、OH含有量が10ppm以下、 及びF濃度が0.5重量%以上の縦長オキシフッ化ケイ素ガラスチューブである。

請求項（抜粋）：

リソグラフィ用フォトマスクブランクの作成方法において、前記方法が: OH含有量が50ppmより少ないオキシフッ化ケイ素ガラスチューブを提供する工程: 前記オキシフッ化ケイ素ガラスチューブにスリットを入れる工程: 前記オキシフッ化ケイ素ガラスチューブを平板化する工程;及び 前記平板化されたスリット入りオキシフッ化ケイ素ガラスチューブを平表面を有するフォトマスクブランクに二次成形する工程;を含むことを特徴とする方法。

IPC (7件)：

C03B 23/047 ,  C03B 8/04 ,  C03B 23/049 ,  C03B 23/051 ,  C03C 3/112 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (10件)：

C03B 23/047 ,  C03B 8/04 C ,  C03B 8/04 L ,  C03B 8/04 M ,  C03B 8/04 P ,  C03B 23/049 ,  C03B 23/051 ,  C03C 3/112 ,  G03F 1/08 Z ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (62件)：

2H095BA07 ,  2H095BC27 ,  4G014AH21 ,  4G014AH23 ,  4G015BA06 ,  4G062AA01 ,  4G062BB02 ,  4G062DA08 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FA10 ,  4G062FB01 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE02 ,  4G062GE03 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062LA10 ,  4G062MM02 ,  4G062NN16