特許

J-GLOBAL ID：200903047725031019

レジスト組成物

発明者： 松野 修吾 ,  阿部 信紀 ,  杉本 達也
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-261053
公開番号（公開出願番号）：特開平8-101508
出願日： 1994年09月30日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：

【要約】【目的】 新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】 ある種の酸不安定性基を導入したビニルフェノールとメタクリレート単位のほかに、更に酸不安定性基を有しないビニルフェノール単位を有する重合体と活性化放射線の照射により酸を発生する放射線感応性成分を含むことを特徴とするレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

一般式(1)、(2)および(3)【化1】【化2】【化3】(式(1)〜(3)中、R1〜R3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4の置換可アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基であり、R4は次式(4)または(5)【化4】【化5】(式(4)および(5)中、R6〜R13はそれぞれ独立して水素原子、直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換可アルキル基、置換可アルケニル基、置換可アリール基であり、またR6とR7、R11とR12は、それぞれ結合して環を形成していてもよい。)であり、R5は直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換可アルキル基、置換可アルケニル基、置換可アリール基である。式(1)、(2)、(3)で表される単位の比率は、k、m、nで表され、k+m+n=1、0 IPC (3件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027