ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-188853
公開番号（公開出願番号）：特開2000-026446
出願日： 1998年07月03日
公開日（公表日）： 2000年01月25日
要約：

【要約】【課題】 220nm以下の光を用いたリソグラフィー用のフォトレジスト材料において露光光に対して透明性に優れ、かつエッチング耐性、基板密着性に優れたフォトレジスト用組成物を提供する。【解決手段】一般式(1)で示されるラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体を含む高分子前駆体を重合して得られる重合体を含む組成物。【化1】(上式において、R1 、R2 は水素原子、またはメチル基を表す。)

請求項（抜粋）：

一般式(1)で表される(メタ)アクリレート誘導体。【化1】(上式において、R1 、R2 は水素原子、またはメチル基を表す。)

IPC (5件)：

C07D307/77 , C08F 20/18 , C08L 33/06 , G03F 7/027 501 , G03F 7/039 601

FI (5件)：

C07D307/77 , C08F 20/18 , C08L 33/06 , G03F 7/027 501 , G03F 7/039 601

Fターム (45件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE10 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB51 , 2H025CB55 , 4C037XA02 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG071 , 4J002ES006 , 4J002EV246 , 4J002EV296 , 4J002EW176 , 4J002GP03 , 4J100AL03R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA03Q , 4J100BA04Q , 4J100BA05Q , 4J100BA06Q , 4J100BA11Q , 4J100BA14Q , 4J100BA20Q , 4J100BC04Q , 4J100BC04R , 4J100BC07Q , 4J100BC08Q , 4J100BC09Q , 4J100BC12Q , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100FA17 , 4J100JA38

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