放射線硬化性フッ素化組成物から作製された光デバイス

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柳田征史 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-505576
公開番号（公開出願番号）：特表2003-502718
出願日： 2000年06月21日
公開日（公表日）： 2003年01月21日
要約：

【要約】本発明は、低光損失および低複屈折を有するペルフルオロポリマー材料を用いた有機光導波路デバイスを提供する。光学要素は、基板;パターンの形成された光透過性ペルフルオロポリマーコア組成物;および該コアのパターン上にある光反射クラッド組成物を有する。高効率導波路格子の書込みもまた開示されている。

請求項（抜粋）：

光学素子を製造する方法において、 a) コア光重合性組成物を支持体に施して、コア光重合性組成物層を形成し、ここで、該コア光重合性組成物が、少なくとも1つの光重合開始剤および少なくとも1つの光重合性基を有する少なくとも1つのコア光重合性モノマー、オリゴマー、またはポリマーを含有し、該コア光重合性モノマー、オリゴマー、またはポリマーが過フッ素化置換基を含む; b) 前記コア光重合性組成物層を、像形成部分を少なくともある程度重合させ、該コア光重合性組成物層の少なくとも1つの像形成されていない部分を形成するのに十分な化学線に像形成様式で露出し; c) 前記像形成部分を除去せずに、前記少なくとも1つの像形成されていない部分を除去し、それによって、該像形成部分から光透過性のパターンの形成されたコアを形成し; d) 該パターンの形成されたコア上に上側クラッド重合性組成物を施し; e) 該上側クラッド組成物を少なくともある程度硬化させ、ここで、該上側クラッドおよび前記支持体のコア隣接表面が、該コアよりも低い屈折率を有する;各工程を含むことを特徴とする方法。

IPC (5件)：

G02B 6/12 , C08F299/00 , G02B 1/04 , G02B 6/13 , G03F 7/038

FI (5件)：

C08F299/00 , G02B 1/04 , G03F 7/038 , G02B 6/12 N , G02B 6/12 M

Fターム (18件)：

2H025AA11 , 2H025AA13 , 2H025AB14 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC13 , 2H025BC42 , 2H025BC83 , 2H025BD23 , 2H047KA03 , 2H047PA21 , 2H047PA24 , 2H047PA28 , 2H047QA05 , 4J027AC03 , 4J027AC06 , 4J027CC07 , 4J027CD10

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-271306
特開平3-188402
特開平4-271306

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引用文献：

審査官引用 (4件)

Adhesives for optical devices
1998年電子情報通信学会総合大会講演論文集, 19980306, エレクトロニクス1, p.319-320
光技術コンタクト, 19980420, p.202-212

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