特許

J-GLOBAL ID：200903047753041232

トランスシクロヘキサン誘導体の製造方法

発明者： 小槻 日吉三 ,  山岡 英徳 ,  末永 仁士 ,  守屋 成真
出願人/特許権者： ナガセケムテックス株式会社
代理人 (1件)： 南條 博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-051597
公開番号（公開出願番号）：特開2004-256490
出願日： 2003年02月27日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：

【課題】短時間の処理で、高い収率で、かつベンゼン環上の置換基の脱離を起こすこともなく、シス-シクロヘキシルベンゼン誘導体をトランス-シクロヘキシルベンゼン誘導体に異性化する方法を提供すること。【解決手段】以下の一般式(I):【化1】(式中、R1はアルキル基またはフェニル基を表し、R2はメチル基、メトキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、または水素を表し、R3およびR4は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン基またはメチル基を表す)で表されるシスおよびトランス-シクロヘキシルベンゼン誘導体混合物を有機酸、無機酸およびリチウムハライドからなる群から選択される酸で処理して、シス-シクロヘキシルベンゼン誘導体をトランス-シクロヘキシルベンゼン誘導体に異性化する工程を含む方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

トランス-シクロヘキシルベンゼン誘導体の製造方法であって、以下の一般式(I):

IPC (8件)：

C07C5/27 ,  C07B61/00 ,  C07C5/22 ,  C07C13/28 ,  C07C17/358 ,  C07C25/18 ,  C07C41/32 ,  C07C43/21

FI (8件)：

C07C5/27 ,  C07B61/00 300 ,  C07C5/22 ,  C07C13/28 ,  C07C17/358 ,  C07C25/18 ,  C07C41/32 ,  C07C43/21

Fターム (11件)：

4H006AA02 ,  4H006AC27 ,  4H006BA02 ,  4H006BA32 ,  4H006BA36 ,  4H006BA37 ,  4H006BA52 ,  4H006BA66 ,  4H039CA40 ,  4H039CA41 ,  4H039CJ10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平1-238547
  
• 特開昭61-076480
  
• トランスシクロヘキサン化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-278314   出願人：信越化学工業株式会社
• ヘテロポリ酸による環状化合物の転移方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-204800   出願人：チッソ株式会社