特許

J-GLOBAL ID：200903047755608388

ベーパライザの二次圧調整装置

発明者： 原田 真一
出願人/特許権者： 株式会社日本気化器製作所
代理人 (1件)： 野沢 睦秋 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-308225
公開番号（公開出願番号）：特開平6-137217
出願日： 1992年10月22日
公開日（公表日）： 1994年05月17日
要約：

【要約】【目的】 バランス式のアイドル調整機構を具えたベーパライザ二次室の圧力を安定化し、アイドル再現性を良好ならしめる。【構成】 二次弁5の閉弁ばねとアイドル調整用の調整ばねとを一つの閉弁ばね15に集約させた。この閉弁ばね15を回動可能なアーム13に設けたばね受14に保持させ、このばね受14と二次弁5を取付けたレバー11との間隔を手動の調整ねじ16で調節し、二次室5の圧力の設定を行なうとともに閉弁力を与えるようにした。

請求項（抜粋）：

一次室と二次室とを連通する通路を開閉する二次弁を取付けたレバーに作用させた開閉ばねが、前記二次室に回動可能に設置したアームに設けたばね受に保持されており、且つ前記ばね受が前記レバーとの間隔をベーパライザ外部から手動で可調節とされていることを特徴とするベーパライザの二次圧調整装置。