特許

J-GLOBAL ID：200903047756832516

レーザーによるマークの形成方法

発明者： ハリソン,ポール ダブリュ.
出願人/特許権者： サーマーク,リミティド ライアビリティー カンパニー
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-513737
公開番号（公開出願番号）：特表2001-518410
出願日： 1998年09月08日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】所望の形状の金属、プラスチックス、セラミックス材料、グレーズ、ガラスセラミックスおよびガラスにレーザーによりマーク形成する方法に関する。マーク形成される材料に、エネルギー吸収向上剤を含む、種々の厚さのマーク形成材料層を付着させ、ついで、放射が、形成されるマークの形状にしたがって該層に向けられるように、レーザーもしくはダイオードを主とするエネルギー源を該層に照射する。そして、照射された領域で加工部材の表面にマーク形成材料の結合が形成されるように、マーク形成材料によって十分に吸収されるような波長の、レーザーもしくはダイオードを主とするエネルギー源が用いられる。

請求項（抜粋）：

次の工程を含む熱的に活性化された化学的なマークの形成方法: ガラス基体に、エネルギー吸収向上剤を含むガラスフリット材料の層を適用すること;及び 適用されるべきマークの形に従って前記エネルギー吸収向上剤を励起するように選ばれた波長を有する放射エネルギービームで前記層を照射し、これによって前記基体の上にマーク層を形成すること。

IPC (2件)：

B41M 5/26 ,  C03C 23/00

FI (3件)：

C03C 23/00 D ,  B41M 5/26 S ,  B41M 5/26 X

Fターム (7件)：

2H111HA07 ,  2H111HA14 ,  2H111HA22 ,  2H111HA23 ,  2H111HA32 ,  4G059AA00 ,  4G059AC30