特許

J-GLOBAL ID：200903047758643320

固体撮像装置および製造方法

発明者： 谷川 公一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-251241
公開番号（公開出願番号）：特開2002-064193
出願日： 2000年08月22日
公開日（公表日）： 2002年02月28日
要約：

【要約】【課題】凸状レンズの曲率を小さくし感度の不均一化を防止しながら、スミア特性および斜め光に関する感度低下を防止する。【解決手段】基板1内の表面領域に画素の受光部2を形成した後、受光部2の上方の表面部分に窪み7aを有する層間絶縁膜7を形成し、窪み7aの形状を反映した凹部8bを表面に有する光透過膜8aを層間絶縁膜7上に形成し、表面が凸状曲面のマスク層RPを光透過膜8a上の凹部8bを覆う位置に形成し、マスク層RPおよび光透過膜8aを一括してエッチングし、上面に凸状のレンズ曲面を有する凸状レンズの形状に光透過膜8aを加工する。

請求項（抜粋）：

基板内の表面領域に画素の受光部を形成し、上記受光部の上方で層間絶縁膜内に埋め込まれ上面に凸状のレンズ曲面を有する凸状レンズを形成し、上記凸状レンズの上方にオンチップレンズを形成する固体撮像装置の製造方法であって、上記受光部の形成後、上記受光部の上方の表面部分に窪みを有する層間絶縁膜を形成し、上記窪みの形状を反映した凹部を表面に有する光透過膜を、上記層間絶縁膜上に形成し、表面が凸状曲面のマスク層を、上記光透過膜上の上記凹部を覆う位置に形成し、上記マスク層および上記光透過膜を一括してエッチングし、上記光透過膜を上記凸状レンズの形状に加工する固体撮像装置の製造方法。

IPC (3件)：

H01L 27/14 ,  G02B 3/00 ,  H04N 5/335

FI (3件)：

G02B 3/00 A ,  H04N 5/335 U ,  H01L 27/14 D

Fターム (23件)：

4M118AA01 ,  4M118AA06 ,  4M118AB01 ,  4M118BA10 ,  4M118CA03 ,  4M118CA40 ,  4M118CB14 ,  4M118DB08 ,  4M118EA01 ,  4M118FA06 ,  4M118FA26 ,  4M118GB11 ,  4M118GC08 ,  4M118GC09 ,  4M118GC17 ,  4M118GD04 ,  4M118GD07 ,  5C024CX13 ,  5C024CX41 ,  5C024CY47 ,  5C024EX43 ,  5C024GY01 ,  5C024JX25