特許
J-GLOBAL ID：200903047766060805
基板洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-249082
公開番号（公開出願番号）：特開平6-104234
出願日： 1992年09月18日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：
【要約】【目的】 洗浄液濃度を一定に保ち、エッチレートや洗浄効果を安定させるとともに洗浄液の揮発ガスの周辺への拡散をなくす。【構成】 半導体製造工程や液晶パネル製造工程において基板洗浄をするための基板洗浄装置であって、揮発性の薬液を含有する洗浄液を満たした洗浄処理槽1と洗浄液の液面に接するかまたは液面より下に来るようにして設けた蓋7とを有する。
請求項（抜粋）：
揮発性の薬液を含有する洗浄液を満たした洗浄処理槽と、前記洗浄液の液面に接するかまたは液面より下に来るようにして設けた蓋とを有する基板洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
