特許
J-GLOBAL ID:200903047772925443

半導体装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-360278
公開番号(公開出願番号):特開2000-183281
出願日: 1998年12月18日
公開日(公表日): 2000年06月30日
要約:
【要約】【課題】樹脂で封止される半導体装置の信頼性を向上する。【解決手段】本発明による半導体装置は、半導体素子(11)と、半導体素子が搭載される電極板(13)及びリード電極(4,5)を被覆する第1の樹脂層(1)と、電極板及びリード電極とベース基板(6)との間において電極板,リード電極及びベース基板と接着する第2の樹脂層(2)とを有する構造体と、リード電極の一部とベース基板の表面が露出するように構造体を被覆する第3の樹脂層(3)を備える。【効果】第1の樹脂層で保護されるので、製造工程中の電気的特性評価のためにリードを切断するときに故障が発生することを防止できる。
請求項(抜粋):
半導体素子と、前記半導体素子が搭載される電極板と、前記半導体素子と電気的に接合されるリード電極と、前記半導体素子、前記電極板及び前記リード電極が搭載される基板と、前記半導体素子、前記電極板及び前記リード電極を被覆する第1の樹脂層と、前記電極板及びリード電極と前記基板との間において、前記電極板、前記リード電極及び基板と接着する第2の樹脂層と、を有する構造体と、前記リード電極の一部と前記基板の表面が露出するように、前記構造体を被覆する第3の樹脂層と、を備えることを特徴とする半導体装置。
IPC (5件):
H01L 25/07 ,  H01L 25/18 ,  H01L 23/29 ,  H01L 23/31 ,  H01L 23/50
FI (3件):
H01L 25/04 C ,  H01L 23/50 G ,  H01L 23/30 B
Fターム (10件):
4M109AA02 ,  4M109BA02 ,  4M109CA21 ,  4M109DB02 ,  4M109DB15 ,  4M109EB11 ,  5F067AA03 ,  5F067AA19 ,  5F067CA01 ,  5F067DE04

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